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中科院院士:中國光刻技術與國外差距15-20年據半導體投資聯盟報道,9月17日,2019中國集成電路設計大會在青島市嶗山區正式召開,中科院院士劉明在演講中指出,國內的光刻技術與國外技術差距仍為15~20年,是集成電路領域中差距最大的環節。

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大話芯片功耗隨著芯片上晶體管數量的不斷增加,上層應用程序復雜度的提升,現今的半導體行業對芯片功耗的關注比以往任何時候都要多,尤其是在手機等移動端設備,如果產品動不動就沒電了,那是一件十分令人頭痛的事情。

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